專利號(申請號)：CN02152914.0 公開（公告）號：CN1408899 公開(公告)日：2003-04-09 申請日：2002-08-02 申請（專利權）人：希普雷公司 頁數：20 摘要：提供用于加速劑溶液的添加劑，其包含一種或多種加速劑溶液懸浮體抑制化合物。對于化學鍍銅方法，通過在加速劑處理工藝中使用含這種添加劑的加速劑溶液，可以阻止加速劑溶液混濁度的增加。 |
發布日期：2011-11-21 瀏覽次數：3203
專利號(申請號)：CN02152914.0 公開（公告）號：CN1408899 公開(公告)日：2003-04-09 申請日：2002-08-02 申請（專利權）人：希普雷公司 頁數：20 摘要：提供用于加速劑溶液的添加劑，其包含一種或多種加速劑溶液懸浮體抑制化合物。對于化學鍍銅方法，通過在加速劑處理工藝中使用含這種添加劑的加速劑溶液，可以阻止加速劑溶液混濁度的增加。 |
