蒸發鍍膜的基本工藝流程是： 鍍前準備→抽真空→離子轟擊→烘烤→預熔→蒸發→取件→膜層表面處理→成品 1.鍍前準備 工序包括鍍件清洗、蒸發源制作與清洗，真空室鍍件夾具清洗、安裝蒸發源、裝鍍件等。 (1)鍍件的清潔和處理： 膜層與鍍件表面結合力的大小是產品質量重要的指標。它是由許多因素確定的，鍍膜前的表面處理是最基本的因素之一。鍍件表面若有油脂、吸附水、灰塵等會降低膜層的結合力，影響表面粗糙度。 化學除油。各種不同的金屬與非金屬鍍件應采用相應的脫脂除油工藝，具體方法可在本網技術欄目搜索除油查看相關文章。 靜電除塵。鍍件在成型的過程中容易帶靜電，而使膜層產生針孔或降低膜的結合力，因此在涂底漆前須除去靜電。 涂底漆。一般蒸發底的膜層厚度0.05~0.1um，而普通鍍件的表面不平度為0.5um，膜層的厚度遠不足以填補凹坑。為降低表面粗糙度，一般在鍍件表面涂7~10um的特制底漆，以消除凹坑，取得整平表面的效果。 (2)蒸發源的制作： 按照產品的使用要求和鍍件的材質，選擇適當的蒸發材料是獲得優質膜層的基本條件。 選用金屬膜材料的基本原則是：應有良好的熱穩定性和化學穩定性，機械強度高，內應力低，并有一定的韌性，與底漆結合性良好，反光率高，真空中放氣量小;材料來源廣，價格低廉，具有相應的蒸發源。 不同的蒸發材料，需選用相應的蒸發源和蒸發鍍方式。 (3)真空室和鍍件夾具的清洗： 有內罩的真空室污染，可取下罩清洗或更新，若無內罩可用碳酸鈣擦拭，再水擦，最后用無水乙醇擦凈。 常用的鋁夾具可先用20%NaOH液浸泡至表面呈褐色，再用流水沖洗凈，用HNO3浸至褐色消失，再水洗烘干。 (4)安裝蒸發源： 注意戴脫脂手套，工具要事前脫脂。特別注意蒸發源與電極良好接觸。 (5)放置鍍件： 應平穩牢固放置在鍍件地和鍍件夾上，以防蒸發時因夾具旋轉而將鍍件拋離夾具，需戴脫脂手套，不得講話，保持鍍件夾具清潔。 2.抽真空步驟 打開冷卻水閥，調節到所需水壓，接通總電源，關閉通往真空室的大氣閥門，關好管道閥門，啟動機械泵電源，打開預真空閥。此時機械泵對真空室抽氣， 后進行離子轟擊，接通擴散泵加熱電源，關閉預真空閥門，待擴散泵達到工作要求時，關閉真空閥門，打開管道閥門，打開高真空閥門，此時，擴散泵、機械泵對真空室進行抽氣，當真空度達到一定數值后進行烘烤、預熔和蒸發。 3.離子轟擊 輝光放電時，離子轟擊電子獲得很高的速度，在鍍件周圍因電子較大的遷移率而迅速帶有負電荷，在負電荷吸引力的作用下，正離子轟擊鍍件表面，鍍件表面有能量交換，在鍍件吸附層和活性氣體之間發生化學反應，達到清潔表面的效果。 離子轟擊的條件是剩余氣體壓力穩定在0.13~13Pa，電壓為1.5~10kV，時間為5~60min。 4.烘烤 可加速鍍件或夾具吸附的氣體迅速逸出，有利于提高真空度和膜層結合力，烘烤時需注意，對于非金屬烘烤溫度要低于鍍件的熱變形溫度20~30℃，對金屬烘烤一般不超過200℃。 5.預熔 可除去蒸發材料中低熔點雜質和蒸發源及蒸發材料中吸附的氣體，有利于蒸發的順利進行，預熔的真空度一般為6.6×10-3Pa，時間以完全熔化為止，對吸濕性大的物質應反復預熔，總的要求是在蒸發材料升溫到蒸發溫度時，真空度不再下降。 6.蒸發 蒸發技術對鍍層質量影響較大，對一般金屬、特殊金屬和化合物都有不同的要求，例如對某些金屬需快速蒸發，而對另一些金屬則不宜用，加熱方法及蒸發源的形狀也要根據蒸發材料的不同而定。 |
