蒸發(fā)鍍膜的基本工藝流程是： 鍍前準備→抽真空→離子轟擊→烘烤→預熔→蒸發(fā)→取件→膜層表面處理→成品 1.鍍前準備 工序包括鍍件清洗、蒸發(fā)源制作與清洗，真空室鍍件夾具清洗、安裝蒸發(fā)源、裝鍍件等。 (1)鍍件的清潔和處理： 膜層與鍍件表面結合力的大小是產(chǎn)品質(zhì)量重要的指標。它是由許多因素確定的，鍍膜前的表面處理是最基本的因素之一。鍍件表面若有油脂、吸附水、灰塵等會(huì )降低膜層的結合力，影響表面粗糙度。 化學(xué)除油。各種不同的金屬與非金屬鍍件應采用相應的脫脂除油工藝，具體方法可在本網(wǎng)技術(shù)欄目搜索除油查看相關(guān)文章。 靜電除塵。鍍件在成型的過(guò)程中容易帶靜電，而使膜層產(chǎn)生針孔或降低膜的結合力，因此在涂底漆前須除去靜電。 涂底漆。一般蒸發(fā)底的膜層厚度0.05~0.1um，而普通鍍件的表面不平度為0.5um，膜層的厚度遠不足以填補凹坑。為降低表面粗糙度属曙，一般在鍍件表面涂7~10um的特制底漆秧猫，以消除凹坑定合，取得整平表面的效果。 (2)蒸發(fā)源的制作： 按照產(chǎn)品的使用要求和鍍件的材質(zhì)使驰，選擇適當的蒸發(fā)材料是獲得優(yōu)質(zhì)膜層的基本條件。 選用金屬膜材料的基本原則是：應有良好的熱穩定性和化學(xué)穩定性晒屎，機械強度高，內應力低，并有一定的韌性，與底漆結合性良好，反光率高仗暇，真空中放氣量小;材料來(lái)源廣悉盆，價(jià)格低廉，具有相應的蒸發(fā)源。 不同的蒸發(fā)材料，需選用相應的蒸發(fā)源和蒸發(fā)鍍方式。 (3)真空室和鍍件夾具的清洗： 有內罩的真空室污染，可取下罩清洗或更新，若無(wú)內罩可用碳酸鈣擦拭，再水擦，最后用無(wú)水乙醇擦凈蝇毛。 常用的鋁夾具可先用20%NaOH液浸泡至表面呈褐色僧凤，再用流水沖洗凈，用HNO3浸至褐色消失，再水洗烘干。 (4)安裝蒸發(fā)源： 注意戴脫脂手套，工具要事前脫脂。特別注意蒸發(fā)源與電極良好接觸。 (5)放置鍍件： 應平穩牢固放置在鍍件地和鍍件夾上，以防蒸發(fā)時(shí)因夾具旋轉而將鍍件拋離夾具，需戴脫脂手套她粮，不得講話(huà)，保持鍍件夾具清潔。 2.抽真空步驟 打開(kāi)冷卻水閥，調節到所需水壓，接通總電源，關(guān)閉通往真空室的大氣閥門(mén)，關(guān)好管道閥門(mén)，啟動(dòng)機械泵電源扇屎，打開(kāi)預真空閥。此時(shí)機械泵對真空室抽氣， 后進(jìn)行離子轟擊，接通擴散泵加熱電源，關(guān)閉預真空閥門(mén)，待擴散泵達到工作要求時(shí)宜嘶，關(guān)閉真空閥門(mén)，打開(kāi)管道閥門(mén)，打開(kāi)高真空閥門(mén)，此時(shí)，擴散泵馏本、機械泵對真空室進(jìn)行抽氣，當真空度達到一定數值后進(jìn)行烘烤、預熔和蒸發(fā)。 3.離子轟擊 輝光放電時(shí)，離子轟擊電子獲得很高的速度，在鍍件周?chē)螂娮虞^大的遷移率而迅速帶有負電荷，在負電荷吸引力的作用下步蚂，正離子轟擊鍍件表面，鍍件表面有能量交換，在鍍件吸附層和活性氣體之間發(fā)生化學(xué)反應，達到清潔表面的效果。 離子轟擊的條件是剩余氣體壓力穩定在0.13~13Pa，電壓為1.5~10kV爪订，時(shí)間為5~60min。 4.烘烤 可加速鍍件或夾具吸附的氣體迅速逸出，有利于提高真空度和膜層結合力，烘烤時(shí)需注意，對于非金屬烘烤溫度要低于鍍件的熱變形溫度20~30℃，對金屬烘烤一般不超過(guò)200℃。 5.預熔 可除去蒸發(fā)材料中低熔點(diǎn)雜質(zhì)和蒸發(fā)源及蒸發(fā)材料中吸附的氣體，有利于蒸發(fā)的順利進(jìn)行，預熔的真空度一般為6.6×10-3Pa脓升，時(shí)間以完全熔化為止，對吸濕性大的物質(zhì)應反復預熔，總的要求是在蒸發(fā)材料升溫到蒸發(fā)溫度時(shí)，真空度不再下降。 6.蒸發(fā) 蒸發(fā)技術(shù)對鍍層質(zhì)量影響較大，對一般金屬共花、特殊金屬和化合物都有不同的要求，例如對某些金屬需快速蒸發(fā)，而對另一些金屬則不宜用，加熱方法及蒸發(fā)源的形狀也要根據蒸發(fā)材料的不同而定。 |
