| 在這個pH值范圍內研究過許多化學體系，包括草酸鹽，氨基磺酸鹽等。在許多情況下，這些體系擁有合適的電流一電位曲線來沉積鈀，并可避免氫的共沉積，如果用“非老化”的電鍍液進行首次沉積，產生的沉積膜硬度、延展性以及表面外觀都很好，但是，這些體系不能承受過度老化。 在研究用于工業使用的電鍍工藝時，氫脆不是唯一存在的問題。在這些情況里，配位體系的化學和電化學穩定性也是個主要的問題。而且，由于配位體與鹽(例如，PdClz)的反應較慢，故很難設計出簡單的補給體系。溶液中配位體的分解和配位體的堆積加劇了氫脆問題和微裂紋。但是，基于氨配位體的鈀電解液證明是可行的，它們差不多只能在pH值為5～9范圍內使用。 Hedrich和Raub[37，39，40]廣泛研究了無機氨添加劑，發現他們非常適合于沉積技術應用的鈀膜，如表12—9所示，鍍液N和O。圖l2—26表明，該體系的還原電位比酸性體系更負。例如，在0.Imol/L PdClz溶液中鈀的電位EH為+0.55V，而同濃度鈀四氨絡合物的電位為+0.22V。在鈀的二氨二硝基電解液中，鈀鹽中鈀還原與在氨體系中幾乎相同的電勢范圍內進行。 (1)四胺電解液，“無添加劑”體系。胺絡合物在氯化鈀溶液中形成，此時有氨離子存在，pH值大于4.5。當pH值等于7.5時，這些絡合物全部轉化成四方平面絡合物。當鈀四胺溶液被鹽酸酸化時，這個絡合物逐步轉變成鈀二氨絡合物，這種絡合物在酸性范圍內是穩定的。從pH值等于6開始，黃色的Pd(NH3)2C12在0.1mol/L冷溶液中沉淀，pH值為4時沉淀完全。 下面的組成被選擇作為電沉積實驗的標準電解液。
用NH40H將pH值調至8～10之間。 |
