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專利號(申請號)：200820081966.2 公開（公告）號：CN201169621 公開( 公告)日：2008-12-24 申請日：2008-01-09 申請（專利權）人：金梁 頁 數：6 摘要： 一種真空電鍍爐用支架，包括有縱向布置的主架，所述主架上設有與之相交固接的橫桿，位于同一水平高度的若干橫桿組成一排，所述橫桿至少為上下兩排；上排的橫桿上設有上下貫通的通孔，下排橫桿上對應通孔位置設有底部封口的凹槽，所述通孔與凹槽位于同一直線上。本實用新型通過在主架上固接橫桿，上下橫桿通過通孔和凹槽配合，使固定有鎖體的夾具的主架上下端通過通孔和凹槽定位，操作方便；多根位于同一水平高度的同排橫桿呈放射狀結構排列，這樣可以同時固定多個夾具，空間利用率高；主架上可以根據需要設置多排橫桿，相鄰排上下橫桿互相配合，固定夾具更多。 |
