(1)普通型化學拋光溶液配方及工藝規范見表1。 (2)清潔型化學拋光溶液 ①工藝流程。上夾具一超聲波脫脂一熱水洗一三級逆流漂洗一除膜一化學拋光一流動水洗一無鉻鈍化一流動水洗一封閉干燥一成品下架。 ②清潔型化學拋光溶液配方及工藝規范硫酸(H2S04)450mL／L 表1銅及銅合金化學拋光工藝規范
③拋光液各成分對拋光質量的影響 a·硫酸。主要作用是溶解剝離銅及其合金表面的氧化膜，與拋光添加劑A配合使用，可起到光亮整平作用。硫酸濃度高時，拋光速度快，表面光亮度好。但濃度過高時，拋光效果會變差。硫酸濃度低時，拋光速度慢，光亮度差。 b·拋光添加劑。拋光添加劑分為A、B兩組分。A為添加劑，B為調整劑。添加劑A是拋光液的主要組成部分，能起到促進反應速度和提高光亮度的作用。添加劑A含量高時，拋光速度快，光亮度好，但含量再高時，無明顯作用。含量低時，拋光速度慢，拋光表面達不到鏡面光澤。在添加時，拋光添加劑A：H2S04—1：10(體積比)，混合后再加入。拋光添加劑B為調整劑，用于拋光液性能的調整。當拋光表面亮度下降、只加入H2S04和拋光劑A也無法解決時，應適當加入拋光添加劑B，但應注意不要過量，否則，拋光表面會出新。 c·OP乳化劑。0P乳化劑是表面活性劑，具有降低銅基體與拋光液間表面張力的作用，阻止工件凹處化學反應的進行，從而能起到整平作用。 d．工藝條件對拋光質量的影響 (a)溫度。溶液溫度對拋光質量影響很大，溫度升高，拋光速度加快，表面光亮度好，但是溫度過高會對表面光亮度產生一定影響。當溫度低時，拋光速度慢，表面光亮度容易控制。 (b)時間。拋光時間隨著溫度的升高而縮短，但拋光時間過短，工件表面光亮度不夠。在實際生產中，為了獲得鏡面般光亮的表面，應堅持短時、多次拋光的原則。 (c)攪拌。在化學拋光過程中，要求對拋光液進行攪拌或抖動工作，否則，化學反應產生的氣泡沿工件表面逸出，形成不規則條紋或痕跡，影響拋光質量。但是對溶液的攪拌速度不宜過快，否則，工件凹陷處的氣泡迅速逸出，會造成溶液的整平性能下降。 (d)銅制品基體表面狀態�；w表面狀態對拋光質量影響很大。表面光潔度較高的制品拋光的質量也高，對表面光潔度較差的制品，可增加拋光次數，逐步提高制品表面光潔度。 e．工藝維護 (a)工件出槽時，應在槽液上方停留一定時間并抖動工作，以減少拋光液的帶出。工件入槽時，應盡量減少水分的帶入，以避免稀釋溶液，改變拋光液的成分組合。 (b)當拋光工件亮度變差時，首先按H2S04：拋光液A=10：1添加補充，如果亮度仍然不理想時，可加5％H2S04，如果效果還不明顯時，補加拋光添加劑B l％～2％，如果調整無效，可以用虹吸法將槽底部20％～30％左右的拋光液吸出，更新。 (c)拋光過程中，溶液會產生硫酸銅成分的積累，必須及時清除干凈，否則會影響拋光質量�？刹捎媒Y晶交替去除凈化溶液，即用兩個槽交替使用，一個槽使用一段時間后，補充10％H2SO4，靜置降溫，用另一個已處理好的槽子繼續生產，每次更換槽子時應先例槽，去掉已結晶的硫酸銅。 |
