| 采用有機添加劑及鹵素釋放劑聯合使用的鍍鉻液被稱為“第三代鍍鉻溶液”，它們的共同特點是：陰極電流效率高達22%～27%，不含F一，不腐蝕基體;覆蓋能力強，HV亦高達1000以上，既可用于鍍硬鉻，也可用于鍍微裂紋鉻，配合雙層或三層鎳工藝，用于汽車或摩托車減振器的電鍍，已開始在機械行業獲得應用。 有機添加劑包括有機羧酸、有機磺酸及其鹽類等。鹵素釋放劑是指碘酸鉀、溴酸鉀、碘化鉀及溴化鉀等。有機添加劑在鍍液中的作用機理尚待查明，一般認為有機物的加入活化了基體金屬，使鍍液的覆蓋能力得到改善;使析氫過電位增加，提高電流效率;并由于有機物的夾帶，形成碳化鉻而使鍍層硬度增大。表4—35列出有機添加劑鍍鉻液的工藝規范。 表4-35 有機添加劑鍍鉻液的工藝規范
①烷基磺酸中s/c≥1，電流效率可達27%，HV>1i00。 ②含氮有機化合物：煙酸、甘氨酸、異煙酸、吡啶、2一氨基吡啶、3一氯代吡啶、皮考啉酸。 ③HEEF(High Efficiency Etch Free)高效能、無低電流區腐蝕，陰極電流效率達25%，900～1000HV。開缸成分為：HEEF25550mL/L，硫酸2.7g/L，溫度55～60℃，電解4～6h，(電壓>6V，陰陽面積比l5：1)。 ④Ly-2000添加劑t天津中盛表面技術公司產品。補加量為4～6mL/(kA)。 |
