| 在硫酸鹽光亮鍍錫溶液中，雜質的積累會引起鍍層結晶粗糙、不亮，嚴重時發黑、發脆、鍍層結合力差等故障，所以在電鍍生產過程中，對雜質的影響必須引起足夠的認識，雜質的引入主要有以下幾個途徑;車間中的粉塵降落;前處理不完善;清洗不徹底而帶人殘酸或其他污物，補充了含雜質量較多的化工原料;錫板溶解下來的陽極泥渣與錫板不純溶解下來的其他重金屬離子;添加劑的分解產物不斷積累等。 從以上可以看出，雜質進入鍍液的途徑是多方面的，這些雜質積累到一定程度必然嚴重影響到鍍層的質量。當然從根本上解決問題應該是杜絕雜質的來源，但有些雜質的產生是不可避免的，為了全面有效清除鍍液中的雜質，可根據雜質的類型和特點采取不同的處理方法。對于物理雜質，其中包括灰塵、陽極泥渣以及其他落入鍍槽內的固體不溶物，一般通過循環過濾或將鍍液靜置，吸取清液打到另一容器中，然后除去底部的污渣即可;對于金屬離子雜質其中主要包括銅、砷、銻等，它們主要來自不純的錫陽極板、化工材料以及導電棒的溶解，這些雜質的引入會導致鍍層發暗，結晶粗糙，嚴重時鍍層發黑，起條紋，甚至鍍不出合格的產品，這類雜質通常采用0.1～O.3A/dm2的陰極電流密度進行電解除去;鍍液中有機雜質來源于添加劑的分解產物，這些雜質數量少時對鍍層質量影響不大，但隨著雜質的不斷積累，聚集到一定程度就要影響錫層的質量，去除此類雜質最有效的方法就是用l～3g/L的活性炭吸附或用專用處理劑處理。用活性炭吸附有機雜質非常有效，但它的缺點是在吸附有機雜質的同時也吸附一部分添加劑，用專用處理劑只需加入后進行攪拌均勻并自然沉淀12h，用虹吸法取上層清液，棄去沉淀即可。 |
