一種錫的連續自催化沉積化學鍍液及其使用方法

　　公開日 2010.06.09

　　申請人 昆明理工大學

　　地址 云南省昆明市五華區學府路253號(昆明理工大學)

　　本發明公開了一種錫的連續自催化沉積化學鍍液及其使用方法，在純銅及銅合金基體上獲得了半光亮、銀白色的錫–銅合金沉積層�；瘜W鍍液以氯化亞錫為主鹽，硫脲為主配位劑，檸檬酸三鈉為輔助配位劑，次磷酸鈉為還原劑，乙二胺四乙酸二鈉為抗氧化劑，鹽酸為穩定劑，明膠為平整劑，苯甲醛為輔助光亮劑。操作條件為：鍍液pH為0.8 ~ 2.0，溫度80 ~ 90 °C，裝載量為0.8 ~ 1.5 dm2/L，機械攪拌速率為50 ~ 100 r/min。本發明具有以下優點：能通過控制化學鍍時間獲得不同厚度的半光亮、銀白色的錫–銅合金鍍層，沉積速率快，晶粒細化明顯，鍍層表面平整度提高，批次生產穩定性高;界面結合牢固，鈍化處理后鍍層抗變化能力強。在深孔件、盲孔件及難處理的小型電子元器件及PCB印刷板線路等產品中應用前景廣闊。