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關 鍵 詞：化學復合鍍，鍍速，鍍層，摩擦，性能 作 者： 內 容： 3．1主鹽質量濃度對鍍速的影響
圖1為主鹽硫酸鎳質量濃度對鍍速的影響。
圖1硫酸鎳質量濃度對鍍速的影響 Figure l Effect of mass concentration of nickel sulfate on deposition rate
由圖l可以看出，硫酸鎳質量濃度低于25 g／L時，沉積速率隨質量濃度升高而上升；當硫酸鎳質量濃度達到25 g／L左右時，鍍速不再增大；．隨著硫酸鎳質量濃度的進一步增大，鍍速有所降低。因此，本實驗中硫酸鎳的添加量為25 g／L。
3．2還原劑質量濃度對鍍速的影響
圖2為還原劑次磷酸鈉質量濃度對鍍速的影響。由圖2可知，隨著次磷酸鈉質量濃度的增加，沉積速率直線上升，到30 g／L以上時鍍速逐漸趨于緩和甚至降低。因此，本實驗中次磷酸鈉的添加量為30 g／L。
圖2次磷酸鈉質量濃度對鍍速的影響 Figure 2 Effect of mass concentration of sodium hypophosphite on deposition rate
3．3鍍液pH對鍍速的影響
圖3為pH對鍍速的影響。
圖3 pH對鍍速的影響 Figure 3 Effect of pH on deposition rate 由圖3可知，若鍍液中pH太低，則沉積速率很慢pH過高時，0H-極易與Ni2+結合，生成Ni(OH)2沉淀從而導致鍍液分解失效。當pH偏高或不均勻時，鍍液容易混濁甚至發生分解。將pH設定在4．6左右是合無的。
3．4鍍液溫度對鍍速的影響
圖4為轆諦漏唐對瓣談的影晌．
圖4鍍液溫度對鍍速的影響 Figure 4 Effect of bath temperature on deposition rate
由圖4可知，溫度小于80 ℃時，鍍液毫無反應，鍍速為零；當溫度高于94 ℃時，隨著施鍍溫度的升高，粒子運動速率逐漸加快，使鍍件表面催化活性點的數量增多，從而促進金屬離子的沉積速率加快，導致鍍層的沉積速率增大。溫度若繼續升高，粒子運動速率進一步加快，粒子在表面停留的時間反而縮短，因此不利于鍍層的形成及其與基體的結合，且鍍層易從基體表面脫落下來，鍍層的結合力變差。本實驗中，施鍍溫度的最佳范圍是(92±20)℃。
3．5 PTFE體積分數對鍍速的影響
圖5示出了鍍液中PTFE體積分數對鍍速及鍍層中PTFE質量分數的影響。
圖5 鍍液中PTFE體積分數對鍍速及鍍層中PTFE質量分數的影響 Figure 5 Effect of PTFE volume fraction in solution on deposition rate and mass fraction of PTFE in deposit
由圖5可知，隨著鍍液中PTFE體積分數的增加，鍍速逐漸降低，而鍍層中PTFE質量分數則不斷增大。當PTFE粒子的體積分數較低時，隨著其增大，粒子與試樣表面發生機械碰撞的幾率增大，被吸附和鑲嵌的粒子也增多，而且適量的PTFE在沉積過程中能夠增加沉積基底上成核的幾率，促進共沉積；PTFE體積分數過高時，粒子間發生相互碰撞的幾率增大，容易產生團聚，不僅妨礙其共沉積，而且會造成鍍層質量下降，同時由于表面活性劑的質量濃度會隨著乳液加入量的增加而增加，表面活性劑在鍍件表面的吸附量隨之增大，從而抑制了PTFE微粒在鍍件表面的吸附。故隨著鍍液中PTFE的含量增大到一定程度，鍍層中PTFE粒子的含量趨于穩定。10 mL／L左右的PTFE乳液添加到鍍液中能得到性能良好的復合鍍層，同時也能保證較高的沉積速率。 注：本站部分資料需要安裝PDF閱讀器才能查看，如果你不能瀏覽文章全文，請檢查你是否已安裝PDF閱讀器！ |
