低應力鍍鈷采用以下配方: 氨基磺酸鈷 450g/L 甲酰胺 30mL/L 十二烷基硫酸鈉 0.3~O.5g/L 溫度 (40±10)℃ 電流密度 3.O~5.OA/dm2 應力消除劑:糖精 l~1.5g/L 裝飾用鍍層可采用以下配方: 硫酸鈷 350~500g/L 硼酸 30~45g/L 氯化鈷 45g/L 甲醛 l0~15mL/L 硫酸鎘 0.5g/L 糖精 l~1.5g/L 溫度 (40±10)℃ 電流密度 2~4A/dm2 |
低應力鍍鈷采用以下配方: 氨基磺酸鈷 450g/L 甲酰胺 30mL/L 十二烷基硫酸鈉 0.3~O.5g/L 溫度 (40±10)℃ 電流密度 3.O~5.OA/dm2 應力消除劑:糖精 l~1.5g/L 裝飾用鍍層可采用以下配方: 硫酸鈷 350~500g/L 硼酸 30~45g/L 氯化鈷 45g/L 甲醛 l0~15mL/L 硫酸鎘 0.5g/L 糖精 l~1.5g/L 溫度 (40±10)℃ 電流密度 2~4A/dm2 |