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光亮電鍍與添加劑:平滑細晶理論—提出平滑細晶理論的依據

放大字體  縮小字體發布日期:2012-04-27  瀏覽次數:1326

提出平滑細晶理論的依據

①凹凸不平的表面可用各種打光方法使其變亮,而光亮的表面極為平滑。當其再度變為粗糙時,光亮度則消失。

②反光性好的表面,肉眼看去都是光亮的。若把玻璃的反射率定為100%,鏡面光亮鍍層的反射率為80%以上,一般光亮鍍層的反射率在50%~80%,無光或灰暗鍍層的反射率則在20%以下。實際測定由硫酸鎳、氯化鉀、硼酸和萘三磺酸所得鍍層的反射率為.59%,而不含光亮劑的無光亮鍍鎳層的反射率為6.6%。

③用機械或電化學方法對金屬表面進行拋光時,僅當凹凸不平的金屬表面被整平到相當程度時,金屬才顯出光亮性來,當金屬表面小于0.4μm的顯微凹凸度(也叫粗糙度,coarseness,指表面最凸出處與最凹處的金屬厚度之差)都被整平(粗糙度小于0.15μm)時,就可獲得鏡面光亮的表面。這說明,光亮乃表面平滑的反映,只有很平滑的表面才具有很強的反光作用,這就是打光的金屬鏡也可作為普通鏡子使用的原因。

④同一種鍍液在打光表面上比在凹凸不平的表面上獲得的鍍層光亮。

⑤采用周期換向電流電鍍時,鍍層短時間作為陽極,有利于鍍層表面凸出部被溶解,以消除鍍層表面的顯微凹凸不平,從而獲得更加光亮的鍍層。

⑥用相同表面粗糙度的金屬加工物在含晶粒細化劑(絡合劑或光亮劑)或整平劑的鍍液中獲得的鍍層,比沒有這些添加劑時獲得的鍍層光亮,這表示晶粒越細、表面越平、鍍層也就越光亮。整平劑的整平效果越好、整平速度越快,鍍層的變亮速度也越快。

最新電鍍工藝2012年04月27日更新

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