摘要： 采用復合電鍍技術在炭素結構鋼板的表面上制備高硬度的 Ｎｉ－ ＳｉＣ 納米復合鍍層， 研究鎳－ 碳化硅納米復合電鍍的工藝條件。結果表明， 當陰極電流密度為 ２．５６ Ａ／ｄｍ２， 鍍液中納米碳化硅粉的質量濃度為 ２０ ｇ／Ｌ， 鍍液的 ｐＨ 值為 ５．０， 溫度為 ５０ ℃時， 鍍層生長良好， 均勻細致平滑， 鍍層的顯微硬度可達到 ９５０ＨＶ０．２， 遠高于普通純鎳鍍層的硬度。 關鍵詞： 納米復合電鍍； 鎳－ 納米碳化硅； 顯微硬度 中圖分類號： ＴＱ１５３ 文獻標識碼： Ａ 文章編號： １００４－ ２４４Ｘ（２００７）０４－ ００５８－ ０３ 復合電鍍技術是在電鍍液中添加一種或數種不溶性的固體顆粒， 使其與金屬離子共沉積而形成具有特殊功能鍍層的電鍍技術。如添加顆粒為納米級的顆粒，因納米材料的獨特結構而具有的小尺寸效應、量子尺寸效應、宏觀量子隧道效應及表面和界面效應等， 使之具有與傳統材料不同的物理和化學性質［１］。納米金剛石和納米陶瓷粉具有很高的硬度和良好的耐高溫性能， 應用在復合電鍍中能較大幅度地改善鍍層的力學性能［２］。復合鍍作為材料表面強化的一種新手段， 因其鍍層具有的高硬度、耐磨性、自潤滑性、耐蝕性、特殊的裝飾外觀以及電接觸、電催化等功能而倍受人們的關注［３］。 納米顆粒在鍍層中的含量及存在狀態是影響鍍層性能的關鍵因素， 如何使得納米顆粒在鍍層中均勻地分散是該技術的難點。本試驗采用復合電鍍技術在Ｑ２３５ 炭素結構鋼板的表面上制備了高硬度、高耐磨的Ｎｉ－ 注：本站部分資料需要安裝PDF閱讀器才能查看，如果你不能瀏覽文章全文，請檢查你是否已安裝PDF閱讀器！ |
