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化學鍍鎳的工藝特點和耐蝕性研究進展

放大字體  縮小字體發布日期:2012-04-13  瀏覽次數:1309

 本文介紹了化學鍍鎳的工藝特點以及二元、三元化學鍍鎳合金層耐蝕性的研究

情況,描述了化學鍍鎳技術發展的良好前景。

 

Study Advancement on Process Characteristic and Corrosion

Resistance of Electroless Nicel

 

Yan Hong Du Qiang

(The Key laboratory of Kunming Metallurgical Research Institute, Kunming 650031)

 

Cai Yun-Zhuo

(Kunming Precious Metal Institute, Kunming 650021)

 

Abstract: Process characteristic and corrosion resistance of electroless nickel are described,Good

prospects of electroless nickel technology are described in this paper.

Key words: Electroless nickel Process characteristic Corrosion resistance

 

化學鍍鎳技術是采用金屬鹽和還原劑,在材料表面上發生自催化反應獲得鍍層的方法。到目前為止,化學鍍鎳是國外發展最快的表面處理工藝之一,且應用范圍也最廣;瘜W鍍鎳之所以得到迅速發展,是由于其優越的工藝特點所決定。

 

一、化學鍍鎳層的工藝特點

1. 厚度均勻性

厚度均勻和均鍍能力好是化學鍍鎳的一大特點,也是應用廣泛的原因之一,化學鍍鎳避免了電鍍層由于電流分布不均勻而帶來的厚度不均勻,電鍍層的厚度在整個零件,尤其是形狀復雜的零件上差異很大,在零件的邊角和離陽極近的部位,鍍層較厚,而在內表面或離陽極遠的地方鍍層很薄,甚至鍍不到,采用化學鍍可避免電鍍的這一不足;瘜W鍍時,只要零件表面和鍍液接觸,鍍液中消耗的成份能及時得到補充,任何部位的鍍層厚度都基本相同,即使凹槽、縫隙、盲孔也是如此。

 

2. 不存在氫脆的問題

電鍍是利用電源能將鎳陽離子轉換成金屬鎳沉積到陽極上,用化學還原的方法是使鎳陽離子還原成金屬鎳并沉積在基體金屬表面上,試驗表明,鍍層中氫的夾入與化學還原反應無關,而與電鍍條件有很大關系,通常鍍層中的含氫量隨電流密度的增加而上升。

在電鍍鎳液中,除了一小部分氫是由NiSO4和H2PO3反應產生以外,大部分氫是由于兩極通電時發生電極反應引起的水解而產生,在陽極反應中,伴隨著大量氫的產生,陰極上的氫與金屬Ni—P合金同時析出,形成(Ni—P)H注:本站部分資料需要安裝PDF閱讀器才能查看,如果你不能瀏覽文章全文,請檢查你是否已安裝PDF閱讀器!

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