導電氧化是電子產品鋁構件的常用處理工藝。根據產品不同情況的需要,有無色膜和彩色膜等方法。
(1)無色透明導電氧化
磷酸
22g/L
硼酸
2g/L
鉻酐
4g/L
溫度
室溫
氟化鈉
5g/L
時間
l5~60s
膜層的厚度約在0.3~O.5μm,導電性能良好。
(2)彩色導電氧化
30~35℃
lg/L
25~30s
鐵氰化鉀
0.5g/L
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