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導電氧化膜工藝

放大字體  縮小字體發布日期:2012-04-21  瀏覽次數:1263

導電氧化是電子產品鋁構件的常用處理工藝。根據產品不同情況的需要,有無色膜和彩色膜等方法。

 

   (1)無色透明導電氧化

 

磷酸

22g/L

硼酸

2g/L

鉻酐

4g/L

溫度

室溫

氟化鈉

5g/L

時間

l5~60s

 

膜層的厚度約在0.3~O.5μm,導電性能良好。

 

   (2)彩色導電氧化

 

鉻酐

4g/L

溫度

30~35℃

氟化鈉

lg/L

時間

25~30s

鐵氰化鉀

0.5g/L

最新電鍍工藝2012年04月21日更新

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