由于激光加熱蒸發是獨特的物理過程，故激光薄膜沉積有以下優點： (1)激光器安裝在真空室外，簡化了真空室內部的空間布置。由于采用非接觸式加熱不需要坩堝，避免了坩堝的污染，適宜在超高真空下制備高純薄膜。 (2)鍍膜裝置靈活性大�？梢栽O置多個靶，施行順序蒸發，一次完成多層膜的原位沉積產生原子級清潔的界面。 (3)可以蒸發金屬、半導體、陶瓷等各種無機材料。有利于解決高熔點材料，如氮化物、硼化物、硅化物等的薄膜沉積問題。 (4)可引入各種活性氣體，如氫、氧等，制備氫化物和氧化物薄膜。 (5)靶材用量少。靶的尺寸原則上只要比束斑大一點即可。故適于制備稀有貴重金屬薄膜。 |
