| 金屬材料或制件在配比合理的腐蝕劑、氧化劑、添加劑組成的拋光溶液中浸蝕，經發生一系列反應后，表面變得潔凈光亮，稱為化學拋光。這是由于金屬微觀表面不均勻的膜或在拋光溶液中形成的黏稠性液膜使金屬微觀表面溶解的速度不均勻，微觀凸出部分的溶解速度大于凹處的溶解速度，從而降低了表面的微觀粗糙度，使金屬表面顯得平整而光亮。 化學拋光機理的研究比較少，有學者認為化學拋光原理與電拋光相似，電拋光理論同樣適用于化學拋光。根據這一觀點出發，認為金屬的拋光是由金屬表面的平滑化和光亮化兩個不同的過程構成。平滑化是指消除金屬表面幾何形狀的不平整，是依靠拋光過程在金屬表面凹凸不平的部位生成黏稠液膜厚度的不同而實現。光亮化則是抑制由于金屬基體結晶學上的不平整(即各向異性)而引起的特定結晶面的選擇性溶解，它取決于金屬表面上的固體膜(氧化膜)的不斷生成和溶解。所以也有人稱這種說法為雙重膜理論�；瘜W拋光具有以下的特點。 ①化學拋光最適合處理大型的各種建筑型材或形狀復雜的大型零部件，對于較小的零部件，則可以同時處理很多工件，效率高，拋光處理能力大。 ②化學拋光的設備簡單，不需要直流電源和電掛具，可以根據每批所處理的工件數量而設計建造，造價低廉。 ③化學拋光主要用于工件的裝飾性加工。 ④拋光過程中有有害氣體產生，不利于操作人員的健康及環境保護。 ⑤拋光后，工件表面的粗糙度較大，表面光滑及光亮程度比電拋光的差。 ⑥拋光溶液的消耗量大，壽命短，再生困難。 |
