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電鍍自焊接三維微電極陣列方法

放大字體  縮小字體發布日期:2012-03-09  瀏覽次數:1373

專利號(申請號):200810034328.X

公開(公告)號:CN101240435

公開( 公告)日:2008-08-13

申請日:2008-03-06

申請(專利權)人:復旦大學

頁 數:6

摘要:

      本發明屬于微電極制備技術領域,具體涉及電鍍自焊接三維微電極的方法。其步驟是把微電極穿過金屬微孔,并固定在插槽中;對微金屬孔進行電鍍,使金屬孔逐漸變小,直到與穿過微金屬孔的微電極結合在一起,從而實現了微電極與微金屬孔的自焊接。這種焊接方法可以輕松實現金屬微電極陣列與微金屬孔的立體焊接,效果很好,并且方法簡單,成本也較低。

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