氨濃度對電沉積的影響見圖l[1]。
圖1氨濃度對電沉積的影響。 -○-η％；-口-M0／％(原子) 為了研究氨對電沉積的影響，在檸檬酸鈉0.3mol／L溶液中加入氨水，便得到檸檬酸銨和檸檬酸鈉與檸檬酸銨的總濃度為0.3mol／L的混合溶液的比值�？梢姡� ①隨著檸檬酸銨的濃度的增加，比值增大陰極電流效率降低，鍍層中鉬含量增加； ②當該比值>0.8時，電流效率幾乎為零，不能獲得好鍍層； ③無氨時，比值=0電流效率很低； ④隨著氨濃度增加，比值自0.4增大，陰極電流效率降低至近于0，鍍層中鉬含量增加至30％。 其原因是在氨性檸檬酸溶液中，盡管鎳離子主要以[NiC6H507(NH3)3]形式存在，但放電活性離子袁寶華認為卻是[NiC6H507(NH3)2]，所以，氨濃度過大或過小都不利于電活性離子形成，影響鎳電沉積，進而影響鉬的共沉積，不能獲得好鍍層。 參考文獻 1 曾躍，姚素薇，郭鶴桐．非晶態Ni-M0合金的電沉積．電鍍與精飾，1994，16(3)：9～12 |
